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YS/T 1600-2023 碳化硅单晶中痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法

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sda 发表于 2025-8-19 09:45 | 显示全部楼层 |阅读模式
碳化硅单晶中痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法(YS/T 1600-2023),英文名为Determination of trace impurity elements in silicon carbide single crystal-Glow discharge mass spectrometry。
碳化硅单晶中痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法(YS/T 1600-2023)是在2023-04-21发布,在2023-11-01开始实施。
本文件规定了碳化硅单晶中杂质元素含量的辉光放电质谱测定方法。本文件适用于碳化硅单晶中杂质元素含量的测定。
本标准文件共有11页。
YS_T 1600-2023 碳化硅单晶中痕量杂质元素含量的测定 辉光放电质谱法.pdf (703.65 KB)
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