本标准为SJ/T 11491-2015，标准的中文名称为短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量，标准的英文名称为Test methods for measurement of interstitial oxygen content in silicon by short baseline infrared absorption spectrometry，本标准在2015-04-30发布，在2015-10-01开始实施。
本标准规定了用短基线红外光谱法测定硅中间隙氧含量。本标准适用于在室温下用短基线红外吸收法,测量低电阻率的n型硅单晶和p型硅单晶中间隙氧含量。测量氧含量的有效范围从1×1016at.cm-3至硅单晶中间隙氧的最大固溶度的测试。
本标准文件共有12页。
SJ_T 11491-2015 短基线红外吸收光谱法测量硅中间隙氧含量.pdf
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