YS/T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶

平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶（YS/T 719-2009），该标准的归口单位为全国有色金属标准化技术委员会，英文名为Flat magneting sputtering target. Silicon target for optical coating。
平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶（YS/T 719-2009）是在2009-12-04发布，在2010-06-01开始实施。
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用硅靶材。
本标准文件共有6页。
YS_T 719-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用硅靶.pdf (123.4 KB)

2021-4-10 02:36 上传

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