本标准为GB/T 14849.4-2008，标准的中文名称为工业硅化学分析方法 第4部分:电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量，标准的英文名称为Methods for chemical analysis of silicon metal. Part 4etermination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method，本标准在2008-06-09发布，在2008-12-01开始实施。
本标准作废日期为2015-08-01。被标准GB/T 14849.4-2014替代。
本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定方法。
本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、钛、锰、镍含量的测定。
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etermination of elements content Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method，本标准在2008-06-09发布，在2008-12-01开始实施。
GB_T 14849.4-2008 工业硅化学分析方法 第4部分_电感耦合等离子体原子发射光谱法测定元素含量.pdf