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标准规范网 下载中心 其它 GB_T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染.pdf

GB_T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染.pdf

 

GB/T 40110-2021 表面化学分析 全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染:
本标准为GB/T 40110-2021,标准的中文名称为表面化学分析  全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染,标准的英文名称为Surface chemical analysis—Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy,本标准在2021-05-21发布,在2021-12-01开始实施。
该标准采用了标准IDT;ISO 14706- 2014。
本标准文件共有25页。


标准封面截图:
GB/T 40110-2021 表面化学分析  全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定硅片表面元素污染

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