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GB_T 34893-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法.pdf

 

GB/T 34893-2017 微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法:
微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法(GB/T 34893-2017),该标准的归口单位为全国微机电技术标准化技术委员会,英文名为Micro-electromechanical system technology. Measuring method for in-plane length measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer。
微机电系统(MEMS)技术 基于光学干涉的MEMS微结构面内长度测量方法(GB/T 34893-2017)是在2017-11-01发布,在2018-05-01开始实施。
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取MEMS微结构表面形貌进行面内长度测量的方法。本标准适用于表面反射率不低于4%,宽深比不低于1:10,且使用光学干涉显微镜能够获取形貌的MEMS微结构。
本标准文件共有12页。

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