GB/T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材:本标准为GB/T 29658-2013，标准的中文名称为电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材，标准的英文名称为High-Purity sputtering aluminium and aluminium alloy target used in electronic film，本标准在2013-09-06发布，在2014-05-01开始实施。
本标准规定了电子薄膜制备用高纯铝及铝合金靶材的要求、试验方法、检验规则及标志、包装、运输、存贮、订货单(或合同)等内容。本标准适用于电子薄膜用各类高纯铝及铝合金溅射靶材(以下简称铝靶)。
本标准文件共有10页。
GB_T 29658-2013 电子薄膜用高纯铝及铝合金溅射靶材.pdf