硅片参考面结晶学取向X射线测试方法（GB/T 13388-2009），该标准的归口单位为全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会，英文名为Method for measuring crystallographic orientation of flats on single-crystal silicon slices and wafers by X-ray techniques。
硅片参考面结晶学取向X射线测试方法（GB/T 13388-2009）是在2009-10-30发布，在2010-06-01开始实施。
该标准采用了标准SEMI MF847-0705,MOD。
本标准规定了α角的测量方法,α角为垂直于圆型硅片基准参考平面的晶向与硅片表面参考面间角。本标准适用于硅片的参考面长度范围应符合GB/T 12964和GB/T 12965中的规定,且硅片角度偏离应在-5°到+5°范围之内。
本标准文件共有11页。
GB_T 13388-2009 硅片参考面结晶学取向X射线测试方法.pdf
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