热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物（GB/T 24577-2009），该标准的归口单位为无，英文名为Test methods for analyzing organic contaminants on silicon wafer surfaces by thermal desorption gas chromatography。
热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物（GB/T 24577-2009）是在2009-10-30发布，在2010-06-01开始实施。
该标准采用了标准SEMI MF1982-1103,MOD。
本标准规定了硅片表面的有机污染物的定性和定量方法,采用气质联用仪或磷选择检测器或者两者同时采用。本标准适用于硅抛光片和有氧化层的硅片。
本标准文件共有8页。
GB_T 24577-2009 热解吸气相色谱法测定硅片表面的有机污染物.pdf
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