表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度（GB/T 20176-2006），该标准的归口单位为全国微束分析标准化技术委员会，英文名为Surface chemical analysis. Secondary-ion mass spectrometry. Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials。
表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度（GB/T 20176-2006）是在2006-03-27发布，在2006-11-01开始实施。
该标准采用了标准ISO 14237-2000,IDT。
本标准详细说明了用标定的均匀掺杂物质确定单晶硅中硼的原子浓度的二次离子质谱方法。它适用于均匀掺杂硼浓度范围从1×10的16次方atoms/cm3～1×10的20次方atoms/cm3。
本标准文件共有20页。
GB_T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度.pdf
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