本标准为GB/T 19921-2005，标准的中文名称为硅抛光片表面颗粒测试方法，标准的英文名称为Test method of particles on silicon wafer surfaces，本标准在2005-09-19发布，在2006-04-01开始实施。
本标准作废日期为2019-07-01。被标准GB/T 19921-2018替代。
本标准规定了应用扫描表面检查系统(SSIS)对硅抛光片表面颗粒进行测试、计数和报告的程序。本标准适用于硅抛光片,也可适用于硅外延片或其他镜面抛光片(如化合物抛光片)。本标准也适用于观测硅抛光片表面的划痕、桔皮、凹坑、波纹等缺陷,但这些缺陷的检测、分类依赖于设备的功能,并与检测时的初始设置有关。
本标准文件共有11页。
GB_T 19921-2005 硅抛光片表面颗粒测试方法.pdf
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