砷化镓表面镓砷比的测试方法（SJ 20842-2002），该标准的归口单位为信息产业部电子第四研究所，英文名为Test method for Ga/As ratio of surface of gallium arsenide。
砷化镓表面镓砷比的测试方法（SJ 20842-2002）是在2002-10-30发布，在2003-03-01开始实施。
本标准规定了砷化镓材料表面镓砷比的X射线光电子能谱的试验方法。本标准适用于监测砷化镓器件制造过程中各种表面处理对砷化镓晶片表面镓砷比的影响,也适用于晶片加工中的各种表面处理。
本标准文件共有5页。 SJ 20842-2002 砷化镓表面镓砷比的测试方法.pdf(218.08 KB)
