标准规范网

 找回密码
 QQ一键登录

QQ登录

只需一步,快速开始

搜索

GB/T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件

[复制链接]
2426814067 发表于 2021-4-11 12:17 | 显示全部楼层 |阅读模式
物理气相沉积TiN薄膜技术条件(GB/T 18682-2002),该标准的归口单位为全国金属与非金属覆盖层标准化技术委员会,英文名为Specifications of physical vapour deposition TiN films。
物理气相沉积TiN薄膜技术条件(GB/T 18682-2002)是在2002-03-10发布,在2002-08-01开始实施。
本标准规定了物理气相沉积TiN薄膜的技术要求。本标准适用于物理气相沉积TiN薄膜,也适用于其他方法制备的TiN薄膜。本标准也适用于其他材料沉积层(TiC,TiCN,TiAIN等)。
本标准文件共有24页。
GB_T 18682-2002 物理气相沉积TiN薄膜技术条件.pdf (831.98 KB)
回复

使用道具 举报

sjdfg 发表于 2021-12-18 19:57 | 显示全部楼层
看看怎样
回复

使用道具 举报

Cnteacher 发表于 2021-12-30 08:15 | 显示全部楼层
谢谢分享!!!!
回复

使用道具 举报

Archiver|手机版|小黑屋|下载中心|标准规范网

GMT+8, 2024-6-7 16:35

Powered by 标准规范网

Copyright © 2018-2021, 标准规范网

快速回复 返回顶部 返回列表