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GB/T 35309-2017 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程

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小飛俠 发表于 2021-4-9 01:37 | 显示全部楼层 |阅读模式
用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程(GB/T 35309-2017),该标准的归口单位为全国半导体设备和材料标准化技术委员会,英文名为Practice for evaluation of granular polysilicon by melter-zoner and spectroscopies。
用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程(GB/T 35309-2017)是在2017-12-29发布,在2018-07-01开始实施。
本标准规定了用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的代位碳原子浓度、施主杂质浓度和受主杂质浓度的方法。本标准适用于尺寸为600μm~3000μm的颗粒状多晶硅,其他尺寸的颗粒状多晶硅可参照本标准执行。
本标准文件共有9页。
GB_T 35309-2017 用区熔法和光谱分析法评价颗粒状多晶硅的规程.pdf (492.36 KB)
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火线灬王者 发表于 2023-11-12 11:35 | 显示全部楼层
很给力~
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fadafa1510 发表于 2024-4-1 04:35 | 显示全部楼层
下载很快
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