本标准为GB/T 40109-2021，标准的中文名称为表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法，标准的英文名称为Surface chemical analysis—Secondary-ion mass spectrometry—Method for depth profiling of boron in silicon，本标准在2021-05-21发布，在2021-12-01开始实施。
该标准采用了标准ISO 17560-2014。
本标准文件共有13页。 GB_T 40109-2021 表面化学分析 二次离子质谱 硅中硼深度剖析方法.pdf(779.06 KB)
