本标准为GB/T 34900-2017，标准的中文名称为微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法，标准的英文名称为Micro-electromechanical system technology. Measuring method for residual strain measurements of MEMS microstructures using an optical interferometer，本标准在2017-11-01发布，在2018-05-01开始实施。
本标准规定了基于光学干涉显微镜获取的微双端固支梁结构表面形貌进行残余应变测量的方法。本标准适用于表面反射率不低于4%且使用光学干涉显微镜能够获取表面形貌的微双端固支梁结构。
本标准文件共有15页。 GB_T 34900-2017 微机电系统（MEMS）技术 基于光学干涉的MEMS微结构残余应变测量方法.pdf(2.07 MB)
