GB/T 19444-2025 硅片氧沉淀特性的测试间隙氧含量减少法

心愿永缘 发表于 2025-7-11 17:57 | 显示全部楼层 |阅读模式

《硅片氧沉淀特性的测试间隙氧含量减少法》（GB/T 19444-2025），该标准的归口单位为国家标准委，英文名为Test method for oxygen precipition characteristics of silicon wafers—Interstitial oxygen reduction。
《硅片氧沉淀特性的测试间隙氧含量减少法》（GB/T 19444-2025）是在2025-06-30发布，在2026-01-01开始实施。
本标准文件共有11页。

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GB/T 19444-2025 硅片氧沉淀特性的测试 间隙氧含量减少法

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