表面化学分析 深度剖析 中能离子散射术对硅基底上纳米尺度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析（GB/T 47073-2026），英文名为Surface chemical analysis—Depth profiling—Non-destructive depth profiling of nanoscale heavy metal oxide thin films on Si substrates with medium energy ion scattering。
表面化学分析 深度剖析 中能离子散射术对硅基底上纳米尺度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析（GB/T 47073-2026）是在2026-01-28发布，在2026-08-01开始实施。
该标准采用了标准IDT,ISO 23170:2022。
本文件描述了使用中能离子散射术（MEIS）对硅基底上无定形重金属氧化物超薄膜进行定量深度剖析的方法。
本标准文件共有34页。 GB_T 47073-2026 表面化学分析 深度剖析 中能离子散射术对硅基底上纳米尺度重金属氧化物薄膜的无损深度剖析.pdf(5.87 MB)
