《硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》（GB/T 39145-2020），该标准的归口单位为全国半导体设备和材料标准化技术委员会，英文名为Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry。
《硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法》（GB/T 39145-2020）是在2020-10-11发布，在2021-09-01开始实施。
本标准文件共有8页。 GB_T 39145-2020 硅片表面金属元素含量的测定 电感耦合等离子体质谱法.pdf(670.14 KB)
