本标准为GB/T 32816-2016，标准的中文名称为硅基MEMS制造技术 以深刻蚀与键合为核心的工艺集成规范，标准的英文名称为Silicon-based MEMS fabrication technology. Specification for criterion of the combination of the deep etching and bonding process，本标准在2016-08-29发布，在2017-03-01开始实施。
本标准规定了采用以深刻蚀与键合为核心的工艺集成进行MEMS器件加工时应遵循的工艺要求和质量检验要求。本标准适用于基于以深刻蚀与键合为核心的工艺集成的加工和质量检验。
本标准文件共有18页。 GB_T 32816-2016 硅基MEMS制造技术 以深刻蚀与键合为核心的工艺集成规范.pdf(3.18 MB)
