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GB/T 32281-2015 太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法

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rinick 发表于 2021-4-10 01:49 | 显示全部楼层 |阅读模式
本标准为GB/T 32281-2015,标准的中文名称为太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法,标准的英文名称为Test method for measuring oxygen,carbon,boron and phosphorus in solar silicon wafers and feedstock. Secondary ion mass spectrometry,本标准在2015-12-10发布,在2017-01-01开始实施。
本标准规定了太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷元素体含量的二次离子质谱(SIMS)检测方法。本标准适用于检测各元素体含量不随深度变化、且不考虑补偿的太阳能级单晶或多晶硅片或硅料中氧、碳、硼和磷元素的体含量。各元素体含量的检测上限均为0.2%(即<1 X 10 20 atoms/cm3),检测下限分别为氧含量≥5 X 10 16 atoms/cm3、碳含量≥ 1X10 16 atoms/cm3、硼含量>1 X 10 14 atoms/cm3和磷含量≥2 X 10 14 atoms/cm3。四种元素体含量的测定可使用配有铯一次离子源的SIMS仪器一次完成。
本标准文件共有9页。
GB_T 32281-2015 太阳能级硅片和硅料中氧、碳、硼和磷量的测定 二次离子质谱法.pdf (771.85 KB)
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tgwowo 发表于 2022-7-17 06:52 | 显示全部楼层
这个好啊,谢谢了。
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dachy 发表于 2023-11-22 23:26 | 显示全部楼层
支持下啊
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