GB/T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法第4部分:杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法

嗖嗖嗖 · 发表于 2021-4-12 11:58

工业硅化学分析方法第4部分:杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法（GB/T 14849.4-2014），该标准的归口单位为全国有色金属标准化技术委员，英文名为Methods for chemical analysis of silicon metal. Part 4: Determination of impurity contents. Inductively coupled plasma atomic emission spectrometric method。
工业硅化学分析方法第4部分:杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法（GB/T 14849.4-2014）是在2014-12-05发布，在2015-08-01开始实施。
GB/T 14849的本部分规定了工业硅中铁、铝、钙、锰、铁、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼含量的测定方法。本部分适用于工业硅中铁、铝、钙、锰、铁、镍、铜、铬、钒、镁、钴、磷、钾、钠、铅、锌、硼量的测定。
本标准文件共有13页。

GB_T 14849.4-2014 工业硅化学分析方法第4部分_杂质元素含量的测定电感耦合等离子体原子发射光谱法.pdf (775.67 KB)

丫头 · 发表于 2023-7-27 17:19

感谢分享~

614860312 · 发表于 2024-3-20 02:41

看看。。。

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