本标准为GB/T 30701-2014，标准的中文名称为表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定，标准的英文名称为Surface chemical analysis. Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy，本标准在2014-06-09发布，在2014-12-01开始实施。
该标准采用了标准ISO 17331-2004,IDT。
本标准规定了硅片工作标准样品表面元素铁和/或镍的化学收集方法(气相分解法或直接酸性液滴分解法)和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定。本标准适用于原子表面密度介于6× 10^9 atoms/cm2～5×10^11 atoms/cm2范围的铁和/或镍。
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GB_T 30701-2014 表面化学分析 硅片工作标准样品表面元素的化学收集方法和全反射X射线荧光光谱法(TXRF)测定.pdf
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