本标准为GB/T 29844-2013，标准的中文名称为用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范，标准的英文名称为Specifications of metrology patterns for the evaluation of advanced photolithgraphy，本标准在2013-11-12发布，在2014-04-15开始实施。
本标准规定了用于先进集成电路光刻工艺综合评估的标准测试图形单元的形状、一般尺寸,以及推荐的布局和设计规则,这些标准测试图形包括可供光学显微镜和扫描电子显微镜用的各种图形单元。本标准适用集成电路的工艺、常规掩模版、光致抗蚀剂和光刻机的特征和能力作出评价及交替移相掩模版相位测量,适用于g线、i线、KrF,ArF等波长的光刻设备及相应的光刻工艺。
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GB_T 29844-2013 用于先进集成电路光刻工艺综合评估的图形规范.pdf
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