本标准为GB/T 28274-2012，标准的中文名称为硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则，标准的英文名称为Silicon-based MEMS fabrication technology. The basic regulation of layout design，本标准在2012-05-11发布，在2012-12-01开始实施。
本标准规定了微结构加工时,光刻版图设计中图形设计应遵循的基本规则。本标准适用于采用接触式单/双面光刻、氧化扩散、化学气相淀积(CVD)、物理气相淀积(PVD)、离子注入、反应离子刻蚀(RIE)、氢氧化钾(KOH)腐蚀、硅-玻璃对准静电结合、砂轮划片等基本工艺方法。
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GB_T 28274-2012 硅基MEMS制造技术 版图设计基本规则.pdf
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