YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用铌靶

1234252 · 发表于 2021-4-9 06:22

本标准为YS/T 718-2009，标准的中文名称为平面磁控溅射靶材光学薄膜用铌靶，标准的英文名称为Flat magneting sputtering target. Niobium target for optical coating，本标准在2009-12-04发布，在2010-06-01开始实施。
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。
本标准文件共有6页。

YS_T 718-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用铌靶.pdf (128.04 KB)

纸风筝 · 发表于 2022-1-11 00:40

强强强强

22119532 · 发表于 2022-1-11 19:19

好资源，正好需要

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YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材光学薄膜用铌靶

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