YS/T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶:本标准为YS/T 718-2009，标准的中文名称为平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶，标准的英文名称为Flat magneting sputtering target. Niobium target for optical coating，本标准在2009-12-04发布，在2010-06-01开始实施。
本标准规定了平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材的要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及订货单(或合同)内容。本标准适用于平面磁控溅射光学薄膜用铌靶材。
本标准文件共有6页。
YS_T 718-2009 平面磁控溅射靶材 光学薄膜用铌靶.pdf