本标准为GB/T 16879-1997，标准的中文名称为掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则，标准的英文名称为Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment，本标准在1997-06-20发布，在1998-03-01开始实施。
该标准采用了标准SEMI P21-1992,IDT。
准则规定了在表示掩模曝光设备的精密度和准确度时应遵循的一般要求。掩模曝光设备的图形曝光精密度和准确度是通过测量制成的掩模来评估的,掩模制造过程中的工艺条件对它有很大影响。所以,曝光条件应经厂家和用户双方同意。
本标准文件共有9页。
GB_T 16879-1997 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则.pdf
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