SJ 20635-1997 半绝缘砷化镓剩余杂质浓度微区试验方法

5646546 · 发表于 2021-4-11 10:09

本标准为SJ 20635-1997，标准的中文名称为半绝缘砷化镓剩余杂质浓度微区试验方法，标准的英文名称为Test method for residual impurities concentration in microzone of semi-insulating gallium arsenide，本标准在1997-06-17发布，在1997-10-01开始实施。
本标准规定了厚度为0.4～2.0mm的半绝缘砷化镓晶片中碳、EL2、铬和硅浓度的微区测量方法。本标准适用于半绝缘砷化镓晶片中主要剩余杂质碳、EL2、铬和硅浓度的测定。
本标准文件共有14页。

SJ 20635-1997 半绝缘砷化镓剩余杂质浓度微区试验方法.pdf (2.21 MB)

gzTHXt123 · 发表于 2021-12-29 23:00

很给力~

独角兽 · 发表于 2022-3-26 17:45

感谢分享

		自动登录	找回密码
密码			QQ一键登录

SJ 20635-1997 半绝缘砷化镓剩余杂质浓度微区试验方法

相关帖子