GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

billy · 发表于 2021-4-11 18:34

重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法（GB/T 14847-2010），该标准的归口单位为全国半导体设备和材料标准化技术委界会材料分技术委员会，英文名为Test mothod for thickness of lightly doped silicon epitaxial layers on heavily doped silicon substrates by infrared reflectance。
重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法（GB/T 14847-2010）是在2011-01-10发布，在2011-10-01开始实施。
本标准规定重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法。
本标准文件共有11页。

GB_T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法.pdf (407.77 KB)

小杰业务^ · 发表于 2022-2-22 00:04

好资源，正好需要

1401049780 · 发表于 2023-4-15 06:53

这个不错

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GB/T 14847-2010 重掺杂衬底上轻掺杂硅外延层厚度的红外反射测量方法

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