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XB_T 524-2023 高纯金属钇靶材.pdf

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XB/T 524-2023 高纯金属钇靶材:

高纯金属钇靶材（XB/T 524-2023），英文名为High purity yttrium sputtering target。
高纯金属钇靶材（XB/T 524-2023）是在2023-12-20发布，在2024-07-01开始实施。
本文件规定了高纯金属钇靶材的分类、技术要求、试验方法、检验规则、标志、包装、运输、贮存及随行文件。本文件适用于真空熔铸法、粉末冶金法制得的高纯金属钇靶材，主要用于电子信息、涂层和显示等领域。
本标准文件共有9页。

标准封面截图：
XB/T 524-2023 高纯金属钇靶材

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