YS/T 1053-2015 电子薄膜用高纯钴靶材:本标准为YS/T 1053-2015，标准的中文名称为电子薄膜用高纯钴靶材，标准的英文名称为High-purity cobalt sputtering target used in electronic film，本标准在2015-04-30发布，在2015-10-01开始实施。
本标准规定了电子薄膜用高纯钴靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及订货单(或合同)内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类高纯钴靶。
本标准文件共有12页。
YS_T 1053-2015 电子薄膜用高纯钴靶材.pdf