YS/T 936-2013 集成电路器件用镍钒合金靶材:本标准为YS/T 936-2013，标准的中文名称为集成电路器件用镍钒合金靶材，标准的英文名称为Sputtering nickel vanadium alloy target used in integrated circuit device，本标准在2013-10-17发布，在2014-03-01开始实施。
本标准规定了集成电路器件用镍钒合金溅射靶材的要求、试验方法、检验规则和标志、包装、运输、贮存、质量证明书及合同或订货单内容。本标准适用于电子薄膜制造用的各类镍钒合金溅射靶材。
本标准文件共有16页。
YS_T 936-2013 集成电路器件用镍钒合金靶材.pdf