硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法（GB/T 24575-2009），该标准的归口单位为全国半导体设备和材料标准化技术委员会材料分技术委员会，英文名为Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry。
硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法（GB/T 24575-2009）是在2009-10-30发布，在2010-06-01开始实施。
该标准采用了标准SEMI MF1617-0304,MOD。
本标准规定了硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法。本标准适用于用二次离子质谱法(SIMS)检测镜面抛光单晶硅片和外延片表面的Na、Al、K和Fe每种金属总量。本标准测试的是每种金属的总量,因此该方法与各金属的化学和电学特性无关。本标准适用于所有掺杂种类和掺杂浓度的硅片。本标准特别适用于位于品片表面约5nm 深度内的表面金属玷污的测试。本标准适用于面密度范围在(10^9～10^(14))atoms/cm^2的Na、Al、K和Fe的测试。本方法的检测限取决于空白值或计数率极限,因仪器的不同而不同。
本标准文件共有10页。
GB_T 24575-2009 硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次离子质谱检测方法.pdf
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